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科汇钛力有限公司 / 科汇纳米技术（深圳）有限公司是瑞士著名的PVD涂层设备生产商PLATIT公司在中国的代表，母公司为BCI集团（成立于1947年），总部位于瑞士。亦
为第一家引进此设备的私人公司。科汇公司于2001年在香港成立，为中国以及东南亚的厂家就有关功能性工具的涂层设备提供专业咨询服务及进行涂层加工服务。
瑞士Platit公司是一家较著名的刀具及模具等涂层公司，其为BCI集团的成员，隶属于W Blosch AG公司。W Blosch成立于1947年，主要从事表壳镀金及宝石行业；1977年开办了
PVD（物理涂层）部；1979年建立了真空沉积生产厂；1985年开始从事硬质薄膜的生产；1987年注册了PLATIT品牌；1992年组装出第一台涂层设备；2000年在PL50和PL200的基础上
，建立了整套的涂层系统，实现了交钥匙工程能力；2002年通过研究纳米结构涂层，开发出了旋转靶π80涂层设备；2003年nACoR纳米结构涂层达到工业应用水平。? Platit在捷
克、斯洛文尼亚、美国、中国、西班牙、Scandinacia设有涂层加工中心，应用领域主要涉及刀具、模具及耐磨零部件。? ?Platit主要采用矩形大面积平面靶阴极电弧涂层技术，
该技术起源于上世纪90年代中期，使每一阴极靶材完全覆盖有效涂层区域，最大靶材高度可达800mm，由于成功地解决了电弧的控制技术，与同类技术相比其真空炉内涂层均匀性得
以大幅度提高，通常炉内不均匀性可控制在10%以内，绝对偏差小于0.5μm。? ?该公司2002年所开发的π80涂层设备具有独特的创新性。π80设备与传统的涂层设备有较大的区别
，首先引入了纳米结构薄膜概念，以（nc-Ti1-xAlxN）/（αSi3N4）纳米复合相结构薄膜为例，在强等离子体作用下，纳米TiAlN晶体被镶嵌在非晶态的Si3N4体内，这种结构使薄
膜硬度可达到50GPa，且高温硬度更是十分突出，当温度达到1200℃时，其硬度值仍可保持在30GPa；其二，在工业化生产设备中虽然仍采用了阴极电弧技术，但蒸发源已由原来的
平面形式变换成可转动的圆柱形靶，由此带来的好处可能是多方面的，例如可以自动清洁、靶材利用率高、涂层表面粗糙度可达到Ra0.02～0.03μm（通常涂层为Ra0.1μm左右），
π80与其它传统的涂层设备相同可进行TiN、TiAlN、AlTiN、nACo、TiCN-Mp、TiAlCN、CrN、ZrN、DLC等涂层。
PLATIT自1992年推出首部涂层设备，之后也出现不少变革，而PL70是现时标准的涂层机型号，采用平面矩形的阴极电弧涂层技术 (俗称平面靶)，适合进行中小批量的刀具或模具。
至2003年纳米涂层技术的正式推出，为模具及金属加工行业带来了新景象。技术方面， 其蒸发源已由原来的平面靶转为可转动的圆柱靶，原来的平面靶只有二至三成的使用率，而
旋转靶的使用率高达70%～80%，且更为环保，同时进一步改善了“液滴”的问题，使表面更为光滑。其它的好处包括可解决热力集中的问题，提高蒸发能量等，这一革新可提升靶
材料利用率，改善涂层表面粗糙度及制造出Si3N4 (氮化硅)涂层。圆柱靶电弧涂层更是PLATIT的专利技术，PLATIT π80型号纳米涂层机便是属于这一种类。
PLAITT公司新开发的纳米涂层，通过在纳米的数量级范围内改变涂层的成分，获得硬度(韧性)连续变化的梯度涂层；纳米的多层涂层，以AIN作为主层、TiN-cRN为中间层，两者相
互交替形成多层结构(试验表明当层距为7nm时涂层的硬度达最高值，约45GPa)；PLAITT公司在最新一代π80的上层设备上获得的新涂层——AITiN/SiN，其结构为3nm的AITiN晶粒镶
嵌在非晶态的Si3N4基体上，在晶粒之间为1nm的Si3N4。该涂层的硬度达45GPa，摩擦系数为0.45，最高使用温度可达1100℃。在该设备上开发的LARC工艺，还可以生成由上述结构
组成的纳米多层涂层，可进一步提高涂层的韧性。
